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Aparato reactor de deposición química en fase vapor para el procesamiento de obleas semiconductoras y dispositivos de cristal líquido. 82903
用于半导体晶片加工和液晶器件的化学气相沉积反应器装置
Chino
用于半导体晶片加工和液晶器件的化学气相沉积反应器装置
Inglés
chemical vapor deposition reactor apparatus for semiconductor wafer processing and liquid crystalline devices
Español
Aparato reactor de deposición química en fase vapor para el procesamiento de obleas semiconductoras y dispositivos de cristal líquido.
- N.º ref.
- 82903
- Clase
- 07