用于半导体晶片加工和液晶器件的化学气相沉积反应器装置 82903
中文
用于半导体晶片加工和液晶器件的化学气相沉积反应器装置
英文
chemical vapor deposition reactor apparatus for semiconductor wafer processing and liquid crystalline devices
西班牙文
Aparato reactor de deposición química en fase vapor para el procesamiento de obleas semiconductoras y dispositivos de cristal líquido.
- 本站序号
- 82903
- 类号
- 07