Class 07

chemical vapor deposition reactor apparatus for semiconductor wafer processing and liquid crystalline devices 82903

用于半导体晶片加工和液晶器件的化学气相沉积反应器装置

Chinese 用于半导体晶片加工和液晶器件的化学气相沉积反应器装置

English chemical vapor deposition reactor apparatus for semiconductor wafer processing and liquid crystalline devices

Spanish Aparato reactor de deposición química en fase vapor para el procesamiento de obleas semiconductoras y dispositivos de cristal líquido.