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Material de origen químico para la deposición de películas delgadas sobre obleas semiconductoras para la fabricación de semiconductores 2018
用于在半导体晶片上沉积薄膜以制造半导体的化学源材料
Chino
用于在半导体晶片上沉积薄膜以制造半导体的化学源材料
Inglés
Chemical source material for the deposition of thin films upon semiconductor wafers for the manufacture of semiconductors
Español
Material de origen químico para la deposición de películas delgadas sobre obleas semiconductoras para la fabricación de semiconductores
- N.º ref.
- 2018
- Clase
- 01
- Incluido en
- Base de datos armonizada (HDB)