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Aparato reactor de deposición química en fase vapor para su uso en la fabricación de dispositivos semiconductores y superconductores. 82907
用于制造半导体和超导器件的化学气相沉积反应器装置
Chino
用于制造半导体和超导器件的化学气相沉积反应器装置
Inglés
chemical vapor deposition reactor apparatus for use in the manufacture of semiconductor and superconductor devices
Español
Aparato reactor de deposición química en fase vapor para su uso en la fabricación de dispositivos semiconductores y superconductores.
- N.º ref.
- 82907
- Clase
- 07