法律体系概览

中国的知识产权体系建立在保护创新与促进经济发展的双重目标之上。主要法律包括：

• 《专利法》（Patent Law，1984年制定，多次修订，最近一次2020年）

• 《商标法》（Trademark Law，1982年制定，2019年修订）

• 《著作权法》（Copyright Law，2020年修订）

• 《反不正当竞争法》（Anti-Unfair Competition Law）

• 《植物新品种保护条例》（Regulations on the Protection of New Varieties of Plants）

• 《集成电路布图设计保护条例》（Regulations on the Protection of Layout-Designs of Integrated Circuits）

主管机关为 国家知识产权局（CNIPA），隶属于 国务院。
中国是 WIPO、PCT、马德里议定书、巴黎公约、伯尔尼公约 及 TRIPS协定 的成员国。

国际申请与在中国的审查特点

• 文件一致性要求高：译文错误可能导致补正或驳回；

• 审查严格且程序规范：特别注重在先权利冲突；

• 电子化体系完备：所有申请均可在线办理；

• 官方语言为中文；

• 代理制度：外国申请人必须通过中国注册的专利或商标代理机构提交申请。

商标制度要点

申请渠道

• 可直接向 国家知识产权局商标局 提交申请；

• 或通过 马德里体系（Madrid Protocol） 指定中国。

分类标准

• 采用 尼斯分类（Nice Classification），并辅以中国特有的“类似群”体系；

• 商标商品／服务分类细化程度高，适合精确检索。

审查重点

• 审查包括形式审查与实质审查；

• 注重显著性、在先权利冲突及公众混淆风险；

• 外文及拼音商标的近似判断较严格。

使用与有效期

• 注册有效期为 10 年，可无限续展；

• 连续 三年不使用 可能被撤销。

异议与救济

• 公告期3个月内可提出异议；

• 对驳回决定可向商标评审委员会复审，再可诉至北京知识产权法院。

专利制度

保护类型与期限

• 发明专利：自申请日起 20年；

• 实用新型：10年；

• 外观设计：15年（2021年修订后延长）。

审查机制

• 发明专利实行实质审查制；

• 实用新型与外观设计专利仅进行形式审查；

• 自申请日起3年内须提出审查请求。

国际途径

• 中国是 PCT成员国；

• 外国申请人可通过PCT国际申请进入中国国家阶段。

制度特点

• 审查周期持续缩短：发明平均20–24个月；

• 支持早期公开与优先审查机制；

• 可在线提交、缴费与状态查询。

外观设计（Design）保护

法律基础

• 依据《专利法》及《专利实施细则》。

保护客体

• 产品外观、形状、图案、色彩或其组合；

• 自2021年修订后，图形用户界面（GUI） 亦纳入保护范围。

保护期限

• 自申请日起 15年。

制度特点

• 可主张“部分设计”保护；

• 支持多设计同日申请；

• 新颖性标准较高，公开前应保持保密性。