法律体系概览

印度的知识产权法律体系以保护创新成果并促进产业发展为核心目标。
主要法律包括：

• 《专利法》（Patents Act, 1970，经2005年修订）

• 《商标法》（Trade Marks Act, 1999）

• 《外观设计法》（Designs Act, 2000）

• 《版权法》（Copyright Act, 1957，经2012年修订）

• 《地理标志法》（Geographical Indications of Goods Act, 1999）

• 《半导体集成电路布图设计法》（Semiconductor Integrated Circuits Layout-Design Act, 2000）

行政主管机关为 CGPDTM，下设各专门办公室负责相应权利的注册与管理。
印度亦是WIPO、TRIPS体系及PCT、马德里、海牙协定等多个国际条约的成员国。

国际申请与在印度的审查特点

印度在国际知识产权体系中的地位逐步提升，对外国申请人较为开放，但也有若干需注意的特点：

• 文件一致性要求高：申请文件（尤其译文）若与原文不符，可能导致补正请求或驳回。

• 审查周期：专利平均约18–24个月；商标12–18个月。

• 数字化服务：多数申请与异议程序均可通过 CGPDTM 官方网站在线办理。

商标制度要点

申请渠道

• 可通过 印度商标局（Trade Marks Registry） 直接提交；

• 亦可通过 马德里体系（Madrid Protocol） 指定印度。

分类标准

• 采用 尼斯分类（Nice Classification）；

• 支持多类申请。

审查重点

• 形式审查后进入实质审查，重点关注显著性、在先权利冲突及公众混淆可能；

• 审查语言为英语或印地语。

使用要求与有效期

• 注册有效期为 10年，可无限续展；

• 若连续 五年不使用，可能面临撤销。

异议与上诉

• 自公告日起4个月内可提出异议；

• 上诉由知识产权上诉委员会（IPAB，现并入高等法院知识产权分庭）审理。

专利制度要点

保护期限

• 自申请日起 20年。

审查机制

• 采用实质审查制度；

• 需在申请日起 48个月内提出审查请求。

专利类型

• 发明专利（Invention Patent）

• 临时申请（Provisional Application）可用于占优先权

• 不设独立实用新型制度（Utility Model）。

国际途径

• 印度是 PCT 成员国；

• 可通过国际申请进入国家阶段。

专利审查与公开

• 申请自提交起 18个月后公开；

• 具有加速审查（Expedited Examination）机制，适用于特定申请人（如女性发明人、初创企业、PCT优先权申请人等）。

外观设计制度要点

法律基础

• 依据《外观设计法》（Designs Act, 2000）与《外观设计规则》（Design Rules, 2001）。

保护客体

• 工业产品的外形、形状、构造、图案或装饰；

• GUI（图形用户界面）及包装设计亦可在一定条件下获得保护。

注册与保护期

• 自注册日起有效期 10年，可续展一次至 15年；

• 要求具备新颖性与原创性。

制度特点

• 支持电子申请与在线查询；

• 审查周期相对较短（通常6–9个月）。