L01-2018-用于在半导体晶片上沉积薄膜以制造半导体的化学源材料
Detalles
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类号 L01 |
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项目编号 2018 |
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项目名 用于在半导体晶片上沉积薄膜以制造半导体的化学源材料 |
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项目名(en) Chemical source material for the deposition of thin films upon semiconductor wafers for the manufacture of semiconductors |
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COOR √ |
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HARM √ |