用于半导体制造设备的物理气相沉积反应器 85583
中文
用于半导体制造设备的物理气相沉积反应器
英文
physical vapor deposition reactors for semiconductor manufacturing machines
西班牙文
reactores de deposición física de vapor para máquinas de fabricación de semiconductores
- 本站序号
- 85583
- 类号
- 07