用于制造半导体和超导设备的化学气相沉积反应器装置 82906
中文
用于制造半导体和超导设备的化学气相沉积反应器装置
英文
chemical vapor deposition reactor apparatus for use in the manufacture of semiconductor and superconductor apparatus
西班牙文
Aparato reactor de deposición química en fase vapor para su uso en la fabricación de aparatos semiconductores y superconductores.
- 本站序号
- 82906
- 类号
- 07