用于半导体制造设备的化学气相沉积（CVD）反应器 82900
中文
用于半导体制造设备的化学气相沉积（CVD）反应器
英文
chemical vapor deposition [CVD] reactors for semiconductor manufacturing machines
西班牙文
reactores de deposición química en fase vapor [CVD] para máquinas de fabricación de semiconductores
- 本站序号
- 82900
- 类号
- 07